В каталог
Daikin Industries, Ltd. HFC-32 (CH2F2)
Daikin Industries, Ltd. HFC-32 (CH2F2) — это газ высокой чистоты, необходимый для производства полупроводников, предлагающий чистоту 99,99 об.% (4N) или выше. Он специально разработан для травления SiO₂, SiN и низкоконтактных пленок, обслуживая электротехнический и электронный сектор, в частности, производство деталей и компонентов.
Маркировки и сертификаты
- Без запаха
Преимущества
- Чистота составляет 99,99 об.% (4N) или более для производства полупроводников
- В основном подходит для травления пленок SiO2, SiN и с низкой диэлектрической проницаемостью
Функции и применение
- Функции
- Травильный агент
- Применимые процессы
- Производство полупроводников
- Рынки
- Электрика и электроника
- Технология
- Промышленные добавки и материалы
- Функции промышленных добавок
- Травитель
Применение
Электрика и электроника — Детали и компоненты
- Производство полупроводников
Свойства
- Характеристики
- Высокая чистота
- Физическая форма
- Газ
- Характеристики промышленных добавок
- Высокая чистота
- Информация по безопасности
- Обязательно прочитайте Паспорт безопасности (SDS) и меры предосторожности на этикетке перед использованием.Этот продукт был разработан для промышленных целей, и мы не гарантируем безопасность его использования для любых других целей. Если он будет использоваться для медицинских или пищевых применений, пожалуйста, свяжитесь с нами за консультацией.
Семейства продуктов
Промышленные добавки и материалы — Материалы для аккумуляторов и электроники
- Электронные химикаты
Другие характеристики
- Химическая формула
- CH₂F₂
- Контролируемые показатели
Чистота (за исключением содержания воздуха), другие фторуглероды, содержание кислоты, влажность, содержание воздуха.
- Упаковочная спецификация
- Контейнер 10 л, контейнер 47 л и т.д.
Технические данные
Таблица 1 из 1
3 строки| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Boiling Point | -51.7 | °C |
| Molecular Weight | 52.02 | — |
| Vapor Pressure (at 20°C) | 1.39 | MPa |
