Gelest SIH5841.0
- CAS номер
- 78560-44-8
- Химическое название
- 2-(Перфторооктил)этилтрихлорсилан
- Химическое семейство
- Силаны
- Молекулярная формула
- C₁₀H₄Cl₃F₁₇Si
Gelest (HEPTADECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDRODECIL)TRICHLOROSILANE (SIH5841.0) используется в качестве адгезионного промоторa и связывающего агента. Чаще всего применяется в химическом производстве.
Функции и применение
- Функции
- Промотор адгезии
- Связующий агент
- Рынки
- Промышленный
- Технология
- Базовые химикаты и промежуточные продуктыИнгредиенты для CASE
- Функции базовых химикатов
- Связующий агент
- Функции ингредиентов для CASE
- Адгезионный промотор
- Связующий агент
Применение
- Химическое производство
Свойства
- Физическая форма
- Жидкость
Соответствие и маркировка
- Химические реестры
- TSCA (США)
Хранение и поставка
- Стандартная упаковка
- 5 г
- 25 г
- 500 г
- 2 кг
- Упаковано с медным порошком
Семейства продуктов
- Функциональные добавки
- Другие промежуточные продукты
Другие характеристики
- Процесс экстракции
Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это химически самоограничивающаяся техника осаждения, основанная на последовательном использовании газового химического процесса. В большинстве случаев реакции ALD используют два химических прекурсора, которые реагируют с поверхностью по очереди в последовательном, самоограничивающемся режиме.; Тонкая пленка получается путем повторения последовательности осаждения столько раз, сколько необходимо для достижения определенной толщины. Основной характеристикой пленок является их конформность, а также то, что количество контроля, обеспечиваемое установкой ALD (где реагирующие прекурсоры пространственно разделены), позволяет получать очень тонкие осажденные слои (до 0,1 А за цикл).; Выбор прекурсора имеет ключевое значение в процессах ALD, а именно - нахождение молекул, которые будут иметь достаточную реакционную способность для получения желаемых пленок, но при этом будут достаточно стабильными, чтобы их можно было обрабатывать и безопасно доставлять в реакционную камеру.
- САМ (самособирающиеся монослои)
Их можно наносить в чистом виде или в растворе с помощью традиционных литографических методов для формирования САМ. САМ - это слой амфифильных молекул, образованный хемосорбцией на оксиде металла, поверхности драгоценного металла, пластике или наночастичных подложках, за которым следует двумерное выравнивание гидрофобных групп для формирования структурированного монослоя. Поверхность можно селективно модифицировать для достижения желаемых антифрикционных, механических и химических свойств для микроэлектромеханических систем (МЭМС) и наноэлектромеханических систем (НЭМС).
- Традиционное поверхностное связывание
Алифатические, фторированные алифатические или замещенные ароматические углеводородные заместители являются гидрофобными сущностями, которые позволяют силанам индуцировать гидрофобность поверхности. Органическое замещение силана должно быть неполярным. Гидрофобный эффект органического замещения можно связать со свободной энергией переноса углеводородных молекул из водной фазы в однородную углеводородную фазу. Успешное гидрофобное покрытие должно устранять или смягчать водородные связи и экранировать полярные поверхности от взаимодействия с водой путем создания неполярного межфазного слоя.. Хотя покрытия на основе силанов и силиконов, как правило, являются наиболее гидрофобными, они сохраняют высокую степень проницаемости для водяного пара. Это позволяет покрытиям дышать и снижать ухудшение на границе раздела покрытия, связанное с заключенной водой. Поскольку ионы не транспортируются через неполярные силановые и силиконовые покрытия, они обеспечивают защиту композитных конструкций, начиная от пигментированных покрытий и заканчивая железобетоном.
Технические данные
Таблица 1 из 2
2 строки| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Boiling Point | 216 - 218 | °C |
| Melting Point | 10 - 11 | °C |
Таблица 2 из 2
6 строк| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Hydrolytic Sensitivity | 8 (Reacts rapidly with moisture, water, protic solvents) | — |
| Surface Tension (of treated surfaces) | 12.0 | mN/m |
| Molecular Weight | 581.56 | g/mol |
| Purity | 97.0 | % |
| Density | 1.703 | g/ml |
| Refractive Index (at 20°C) | 1.349 | — |
