Gelest SNT7560

Преимущества

• Этот материал может быть нанесен без вакуумных требований распылительных методик. Альтернативные технологии материалов, исключающие индий, включают оксиды на основе цинка, сурьмы и олова, которые могут быть легированы фтором

Функции и применение

Функции

• Проводящий агент
• Промежуточное вещество

Рынки

Промышленный

Тип покрытия

Проводящее покрытие

Технология

Базовые химикаты и промежуточные продуктыИнгредиенты для CASE

Применимые процессы

Химическое производство

Свойства

Характеристики продукта

Катализатор для перегруппировки и расщепления эпоксиспиртов.; Катализатор для циклизации ω-аминокислот в лактамы.; В сочетании с алкилами свинца образует пленки PZT методом MOCVD.; Обзор реакций в сочетании с реагентами Гриньяра и различными органическими субстратами.; В сочетании с триэтиламином и хлортриметилсиланом удлиняет альдегиды до двух углеродных атомов до эналей.

Показать полностью

Характеристики

Для CVD оксида олова прозрачных проводящих электродов на стекле для фотоэлектрических преобразователей и датчиков; Пиролизуется в вакууме до олова при 600-750°C; Пиролизуется окислительно до SnO при 350-600°C; Образует прозрачные проводящие оксиды для фотоэлектрических преобразователей методом плазмоусиленного химического осаждения из паровой фазы (PECVD)

Показать полностью

Идентификация

Химическое семейство

Органометаллические соединения, Оловянные соединенияОрганометаллические соединенияСоединения олова

Хранение и поставка

Стандартная упаковка

• 25 г
• 100 г
• 1,5 кг
• 20 кг

Другие характеристики

Процесс экстракции

Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это химически самоограничивающаяся техника осаждения, основанная на последовательном использовании газообразного химического процесса. В большинстве случаев реакции ALD используют два химических прекурсора, которые реагируют с поверхностью по очереди в последовательном, самоограничивающемся режиме.; Тонкая пленка получается в результате повторения последовательности осаждения столько раз, сколько необходимо для достижения определенной толщины. Основной характеристикой пленок является их конформность, а также то, что количество контроля, обеспечиваемое схемой ALD (где реагирующие прекурсоры пространственно разделены), позволяет получать очень тонкие осажденные слои (до 0,1 А за цикл).; Выбор прекурсора является ключевым в процессах ALD, а именно - нахождение молекул, которые будут иметь достаточную реакционную способность для получения желаемых пленок, но при этом будут достаточно стабильными, чтобы их можно было безопасно обрабатывать и доставлять в реакционную камеру.

Показать полностью