Gelest AKT872
- CAS номер
- 546-68-9
- Химическое название
- Тетраизопропоксид титана
- Химическое семейство
- АлкоксидыСоединения титана
- Молекулярная формула
- C₁₂H₂₈O₄Ti
Гелест ТИТАНИЕВЫЙ ИЗОПРОПИЛОВЫЙ КАТАЛИЗАТОР (AKT872) используется в качестве катализатора и промежуточного продукта. Этот продукт обычно применяется в химическом производстве.
Функции и применение
- Рынки
- Промышленные
- Технология
- Базовые химикаты и промежуточные продукты
- Применимые процессы
- Производство химикатов
- Функции базовых химикатов
- Катализатор
- Промежуточный продукт
Применения
- Химическое производство
Свойства
- Растворимый в
- Изопропанол, Гептан
Идентификация
- Синонимы
Isopropyl orthotitanate, Isopropyl titanate(IV) ((C3H7O)4Ti), Tetraisopropanolatotitanium, Tetraisopropoxytitanium, Tetraisopropoxytitanium(IV), Tetraisopropyl orthotitanate, Tetraisopropyl titanate, Tetrakis(isopropanolato)titanium, Tetrakis(isopropoxide)titanium, Tetrakis(isopropoxy)titanium, Tetrakis(isopropylato)titanium(IV), Tetrakis(isopropyloxy)titanium, TIPT, Titanium isopropoxide, Titanium isopropylate, Titanium tetraisopropoxide, Titanium tetraisopropylate, Titanium tetrakis(iso-propoxide), Titanium tetrakis(isopropoxide), Titanium(4+) isopropoxide, Titanium(IV) isopropoxide
Соответствие и маркировка
- Химические реестры
- AICS (Австралия)
- DSL (Канада)
- EINECS (ЕС)
- ENCS (Япония)
- IECSC (Китай)
- INSQ (Мексика)
- ISHL (Япония)
- KECI (Корея)
Хранение и поставка
- Стандартная упаковка
- 100 г
- 2 кг
- 17 кг
- 190 кг
Семейства продуктов
- Координационные комплексы
- Органические соли
Другие характеристики
- Процесс извлечения
Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это химически самоограничивающаяся техника осаждения, основанная на последовательном использовании газового химического процесса. В большинстве случаев реакции ALD используют два химических прекурсора, которые реагируют с поверхностью по очереди в последовательном, самоограничивающемся режиме.; Тонкая пленка получается в результате повторения последовательности осаждения столько раз, сколько необходимо для достижения определенной толщины. Основной характеристикой пленок является их конформность, а также то, что количество контроля, обеспечиваемое схемой ALD (где реагирующие прекурсоры пространственно разделены), позволяет получать очень тонкие осажденные слои (до 0,1 А на цикл).; Выбор прекурсора является ключевым в процессах ALD, а именно - нахождение молекул, которые будут иметь достаточную реакционную способность для получения желаемых пленок, но при этом будут достаточно стабильными, чтобы их можно было безопасно обрабатывать и доставлять в реакционную камеру.
Технические данные
Таблица 1 из 2
5 строк| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Delta H Vaporization | 14.7 | kcal/mole |
| Boiling Point (at 1 mmHg) | 58.0 | °C |
| Melting Point | 15 - 19 | °C |
| Enthalpy of Formation | -377.0 | kcal/mole |
| Enthalpy of Evaporation | 14.7 | kcal/mole |
Таблица 2 из 2
10 строк| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Hydrolytic Sensitivity | 7 (Reacts slowly with moisture/water) | — |
| Density (at 20°C) | 0.937 | g/ml |
| Flash Point | 25.0 | °C |
| Refractive Index (at 20°C) | 1.4654 | — |
| Viscosity | 2.0 | cSt |
| Vapor Pressure (at 50°C) | 0.9 | mmHg |
| Vapor Pressure (at 100°C) | 19.0 | mmHg |
| Molecular Complexity | 1.4 | — |
| Metal Content (Ti) | 16.6 - 16.9 | % |
| Molecular Weight | 284.25 | g/mol |
