Gelest SIO6700.0
- CAS номер
- 556-67-2
- Химическое название
- Октаметилциклотетрасилоксан D4
- Химическое семейство
- Силоксаны
- Молекулярная формула
- C₈H₂₄O₄Si₄
Gelest OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE, 98% (SIO6700.0) служит промежуточным продуктом. Это базовый строительный блок для силиконов через полимеризацию с открытием кольца. Этот продукт обычно используется в химическом производстве и производстве полимеров.
Функции и применение
- Функции
- Промежуточное вещество
- Рынки
- Промышленный
- Технология
- Базовые химикаты и промежуточные продукты
- Применимые процессы
- Производство химикатов
- Производство полимеров
- Функции базовых химикатов
- Промежуточный продукт
Применения
- Химическое производство
Идентификация
- Синонимы
2,2,4,4,6,6,8,8-Октаметил-1,3,5,7,2,4,6,8-тетраоксатетрасилокан; 2,2,4,4,6,6,8,8-Октаметилциклотетрасилоксан; Циклический диметилсилоксановый тетрамер; Октаметилциклотетрасилоксан; Тетрациклометикон
Соответствие и маркировка
- Химические реестры
- AICS (Австралия)
- CICR (Турция)
- DSL (Канада)
- EINECS (ЕС)
- ENCS (Япония)
- IECSC (Китай)
- INSQ (Мексика)
- KECI (Корея)
Хранение и поставка
- Стандартная упаковка
- 100 г
- 2 кг
- 15 кг
- 195 кг
Семейства продуктов
- Другие промежуточные продукты
Другие характеристики
- Процесс экстракции
Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это химически самоограничивающаяся техника осаждения, основанная на последовательном использовании газового химического процесса. В большинстве случаев реакции ALD используют два химических прекурсора, которые реагируют с поверхностью по очереди в последовательном, самоограничивающемся режиме.; Тонкая пленка получается в результате повторения последовательности осаждения столько раз, сколько необходимо для достижения определенной толщины. Основной характеристикой пленок является их конформность, а также то, что количество контроля, обеспечиваемое схемой ALD (где реагирующие прекурсоры пространственно разделены), позволяет получать очень тонкие осажденные слои (до 0,1 А за цикл).; Выбор прекурсора является ключевым в процессах ALD, а именно - нахождение молекул, которые будут иметь достаточную реакционную способность для получения желаемых пленок, но при этом будут достаточно стабильными, чтобы их можно было безопасно обрабатывать и доставлять в реакционную камеру.
Технические данные
Таблица 1 из 4
5 строк| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Enthalpy of Fusion | 18.4 | kJ/mol |
| Enthalpy of Evaporation | 45.6 | kcal/mole |
| Delta H Vaporization | 10.9 | kcal/mole |
| Boiling Point | 175 - 176 | °C |
| Melting Point | 17.4 | °C |
Таблица 2 из 4
18 строк| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Dipole Moment | 1.09 | debye |
| Vapor Pressure (at 23°C) | 1.0 | mmHg |
| Ring Strain | 1.0 | kJ/mol |
| Surface Tension (at 20 °C) | 17.9 | mN/m |
| Critical Temperature | 314.0 | °C |
| Critical Pressure | 1.03 | mPa |
| Cryoscopic Constant | 11.2 | — |
| Ethylene Acrylate Copolymer (polymerization) | 79.0 | kJ/mol |
| Octanol/water Partition Coefficient (log Kow) | 5.1 | — |
| Hydrolytic Sensitivity | 1 (No significant reaction with aqueous systems) | — |
| Surface Tension | 17.9 | mN/m |
| Molecular Weight | 296.61 | g/mol |
Таблица 3 из 4
3 строки| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Specific Heat | 502.0 | J/gm/°C |
| Auto-ignition Temperature | 400.0 | °C |
| Coefficient of Thermal Expansion | 0.8 x 10⁻³ | K⁻¹ |
Таблица 4 из 4
1 строка| Характеристика | Значение | Единица |
|---|---|---|
| Water | 50.0 | g/l |
